제품 이점 

CIP 200™ 산성 기반 공정 및 연구용 클리너는 인산, 고급 계면활성제 시스템, 성능 향상 성분이 있는 독점적 혼합물이 함유된 cGMP 제약용 세제입니다. 염분과 금속 산화물을 포함한 다양한 무기 잔여물을 효과적으로 제거하도록 설계되었습니다. 이 세제는 또한 가공 장비의 스테인리스 스틸을 보호하면서 루즈를 효율적으로 제거합니다. 헹구기 쉽고 거품이 적은 특성으로 효과적인 세척과 헹굼을 보장하여 제약 제조 분야에서 물 소비와 가동 중단 시간을 줄이고 생산성을 향상시킵니다. 

• 세척 및 유지 관리: 다양한 약품 잔여물을 효과적으로 세척하고 시설 전체에서 CIP(Clean-in-Place) 및 COP(Clean-out-of-Place) 분야 세척은 물론 스테인리스 스틸 보존 프로그램의 일환으로 루즈 제거 및 보호에 모두 사용할 수 있습니다.
• 간소화된 밸리데이션: GMP 시설에서 제조되고 포괄적인 실험실 문서 및 분석 데이터를 지원하여 세척 밸리데이션 팀의 효율성과 생산성을 높여줍니다.
• 효율성 향상: 헹굼이 우수하고 거품이 적은 특성으로 작업자 시간, 물 및 공정 유틸리티 소비 등 스테인리스 스틸 유지 관리 관련 비용을 효과적으로 줄여 생산성 및 운영 비용을 개선합니다.